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真空濺射離子鍍膜（PVD)服務(wù)商

致力于高端涂層技術(shù)的研究提供成套解決方案

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設(shè)備展示技術(shù)優(yōu)勢(shì)

PVD產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)、特點(diǎn)介紹:

PVD 技術(shù)(物理氣相沉積Physical Vapor Deposition) ，是目前國(guó)際上科技含量高且被廣泛應(yīng)用的離子鍍膜技術(shù)，它具有鍍膜層致密均勻、附著力強(qiáng)、繞射性好、沉積速度快、處理溫度低、可鍍材料廣泛等特點(diǎn)，是表面處理工程領(lǐng)域較佳的選擇。PVD 技術(shù)包括真空蒸鍍、濺射膜和離子膜。PVD 本身鍍膜過(guò)程是高溫狀態(tài)下，等離子場(chǎng)下的輝光反應(yīng)，亦是一個(gè)高凈化處理過(guò)程；鍍層的原材料有鈦、鉻、不銹鋼、石墨、鈦鋁等根據(jù)客戶的需要來(lái)加以選擇，PVD技術(shù)是一種真正無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法。采用磁控離子濺射鍍及多弧離子鍍等先進(jìn)綠色環(huán)保真空鍍膜工藝，并與其它表面處理效?果：如拉絲、高光（機(jī)械拋光）、麻面（噴砂）、亞光、雷雕等相結(jié)合大大增加了產(chǎn)品的附加值。
PVD膜層的特點(diǎn)：

具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)、表面細(xì)膩光滑并富有金屬光澤同時(shí)顏色均勻一致，大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.2μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ～ 2μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能。PVD膜層抵抗力強(qiáng)，在常規(guī)環(huán)境下具有抗氧化、不褪色，不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷，且可鍍材料廣泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。